高純度微納米氧化鋁漿料高速分散機(jī)

氧化鋁漿料分散機(jī),氧化鋁水性漿料高速分散機(jī),氧化鋁水性漿料納米分散機(jī),氧化鋁水性漿料超細(xì)分散機(jī),氧化鋁漿料分散機(jī)

一、氧化鋁的廣泛應(yīng)用

氧化鋁具有硬度高、化學(xué)穩(wěn)定性好、導(dǎo)熱絕緣性能好等優(yōu)點，已被廣泛應(yīng)用在陶瓷、無機(jī)膜、研磨拋光材料等領(lǐng)域。用作分析試劑、導(dǎo)熱相變材料、CCL、環(huán)氧塑封料、環(huán)氧澆注料填充劑、導(dǎo)熱鋁基板、導(dǎo)熱硅膠墊、導(dǎo)熱灌封膠、導(dǎo)熱硅脂、導(dǎo)熱膠泥、導(dǎo)熱雙面膠有機(jī)溶劑的脫水、吸附劑、催化劑、冶煉鋁的原料、耐火材料。

二、氧化鋁的分散問題

近年來，已超細(xì)氧化鋁粉體研制功能陶瓷材料和新型功能復(fù)合材料受到人們的廣泛關(guān)注。但超細(xì)氧化鋁粉體比表面積大，表面活性高，單個超細(xì)顆粒往往處于不穩(wěn)定狀態(tài)，顆粒之間因為相互吸引而團(tuán)聚，易于失去超細(xì)粉體*的性能，因此超細(xì)氧化鋁粉體的分散，是超細(xì)氧化鋁粉體走向?qū)嵱没年P(guān)鍵。

在水溶液中，氧化鋁漿料中的亞微米機(jī)微粒由于受靜電引力等作用發(fā)生團(tuán)聚，出現(xiàn)絮凝，分層等現(xiàn)象，破壞漿料的分散穩(wěn)定性。為此漿料的分散穩(wěn)定性成為人們研究的重點。影響穩(wěn)定性的因素有很多，如：分散劑種類及用量、分散設(shè)備的選擇、粉體的粒度及表面性質(zhì)、PH值、溫度等。

當(dāng)物料工藝確定后，影響分散穩(wěn)定性的因素就是漿料中粒子的半徑，半徑越小，沉降越慢、穩(wěn)定性越高。這種情況下要提高分散穩(wěn)定性就必須選用高品質(zhì)的分散設(shè)備，來獲得更好的物料粒徑，提高分散的均勻性，推薦XMD2000系列研磨分散機(jī)，*的結(jié)構(gòu)，膠體磨+分散機(jī)一體化設(shè)備，14000rpm超高轉(zhuǎn)速，效果好、效率高。

三、微納米氧化鋁漿料分散設(shè)備

結(jié)合多家化工企業(yè)案例，我司推薦XMD2000系列研磨式超高速分散機(jī)進(jìn)行氧化鋁分散，一般可獲得超細(xì)的物料粒徑，一般為1-2μm左右。當(dāng)然還要看具體的物料工藝，以及原始狀態(tài)。

XMD2000是由膠體磨和分散機(jī)組合而成的設(shè)備，轉(zhuǎn)速高達(dá)18000rpm，強大的剪切力。膠體磨磨頭配合分散機(jī)分散盤，先研磨后分散。這種特殊的設(shè)計的優(yōu)勢在于，粒子細(xì)化之后容易出現(xiàn)絮凝現(xiàn)象，所以此時分散十分重要，而砂磨機(jī)難以分散。
XMD2000系列研磨分散設(shè)備是SID（蘇州）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三層變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種分散頭供客戶選擇）。

四、高純度微納米氧化鋁漿料高速分散機(jī)

上面介紹的是中試和工業(yè)級使用的分散機(jī)，若需要在實驗室進(jìn)行小試，可以使用SID的SA25型手持式高剪切分散機(jī)，該款產(chǎn)品可以達(dá)到28000rpm的超高轉(zhuǎn)速，團(tuán)聚顆粒經(jīng)過工作頭下方吸料進(jìn)入剪切區(qū)域，被瞬間撕裂，同時在顆粒表面形成靜電電荷，達(dá)到混為排斥進(jìn)而不再團(tuán)聚的效果。

參數(shù)規(guī)格：

型號----SA25

功率----500W/320W

電源----220V/50/60HZ

轉(zhuǎn)速范圍----10000-28000rpm

轉(zhuǎn)速顯示方式----刻度顯示

調(diào)速方式----無級調(diào)速

處理量----0.2ml-5000ml(H2O)

標(biāo)準(zhǔn)工作頭----25F

接觸物料材質(zhì)----SUS304/SUS316L

浸入物料軸套材質(zhì)----PTFE

可選附件----容器固定夾